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离子体增强型化学气相沉积设备 详细摘要： 离子体增强型化学气相沉积设备1、产品用途 本设备在硅片或光学玻璃等沉底材料上沉积半导体薄膜材料，可用于SiOx、 SiNx、 SiONx、a-Si、石墨烯等材料...
产品型号： 所在地：成都市 更新时间：2019-07-02 参考价： 面议 在线留言
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成都华聚科技有限公司 |
详细摘要： 离子体增强型化学气相沉积设备1、产品用途 本设备在硅片或光学玻璃等沉底材料上沉积半导体薄膜材料，可用于SiOx、 SiNx、 SiONx、a-Si、石墨烯等材料...
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